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德國EVOCHEM蒸發(fā)材料EVOCHEM ETC-TOP
赫爾納供應(yīng)德國EVOCHEM蒸發(fā)材料EVOCHEM ETC-TOP，德國總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品,支持選型，為您提供一對(duì)一的解決方案：貨期穩(wěn)定，報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，在中國設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。
1、 公司簡(jiǎn)介
EVOCHEM Advanced Materials GmbH是一家致力于提供薄膜應(yīng)用材料的公司，其產(chǎn)品組合涵蓋各種蒸發(fā)材料和配件、濺射靶材以及晶體監(jiān)測(cè)等產(chǎn)品。該公司為薄膜應(yīng)用提供較全面的材料系列，覆蓋光學(xué)和配件、磨損和裝飾涂層、微電子和半導(dǎo)體、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、顯示器和太陽能電池等多個(gè)領(lǐng)域。
在蒸發(fā)材料方面，EVOCHEM提供超過60種不同成分的材料，包括特殊混合物和物質(zhì)，以及氟化物、氧化物、硫化物和金屬，這些材料可以顆粒、片劑或圓盤形式提供。該公司擁有定制制造任何所需形狀和純度的生產(chǎn)能力，數(shù)量從幾克到幾百公斤不等。
2、 產(chǎn)品類型
EVOCHEM的蒸發(fā)材料產(chǎn)品線覆蓋了多種化學(xué)成分和材料類型，以下是一些主要產(chǎn)品分類：
純金屬蒸發(fā)材料：涵蓋從鋁到鋯的多種金屬，提供廣泛的純度范圍
氧化物蒸發(fā)材料：用于光學(xué)涂層和其他應(yīng)用領(lǐng)域的氧化物材料
混合物蒸發(fā)材料：多種成分的混合蒸發(fā)材料
硼化物/碳化物蒸發(fā)材料：適用于特殊應(yīng)用需求的硼化物和碳化物
氟化物蒸發(fā)材料：用于特定光學(xué)性能的氟化物材料
碲化物蒸發(fā)材料：滿足特殊涂層需求的碲化物
氮化物蒸發(fā)材料：用于形成氮化物涂層的蒸發(fā)材料
硫化物/硒化物蒸發(fā)材料：包含硫化物和硒化物的蒸發(fā)材料
3、 主要型號(hào)
EVOCHEM的蒸發(fā)材料以多種形態(tài)提供，以下是其代表性產(chǎn)品系列：
蒸發(fā)材料顆粒
蒸發(fā)材料片劑
蒸發(fā)材料圓盤
蒸發(fā)材料棒材
蒸發(fā)材料線材
蒸發(fā)材料粉末
蒸發(fā)材料箔材
蒸發(fā)材料管材
蒸發(fā)材料靶材
4、 產(chǎn)品介紹
4.1、 純金屬蒸發(fā)材料
EVOCHEM提供多種純金屬和超純金屬產(chǎn)品，幾乎包括從鋁到鋯的金屬。這些金屬的數(shù)量和形式范圍很廣，包括粉末、線材、箔、片材、棒材、管材和靶材。提供的純度范圍為99.00% - 99.999999%。
4.2、 疏水材料ETC-TOP
EVOCHEM ETC-TOP代表了ETC產(chǎn)品系列的入門級(jí)質(zhì)量，具有高耐磨性和良好的易清潔性能。該材料可以提供大于105°的接觸角，可以通過電阻加熱船以及使用面漆內(nèi)襯的電子束沉積。
技術(shù)參數(shù)：
蒸發(fā)溫度范圍為400 - 800°C（推薦600°C）
腔室壓力：<4x10-5毫巴
涂層厚度：約10至20納米
襯底溫度：AR涂層CR39玻璃60℃
片劑的存儲(chǔ)：6個(gè)月(未開封)在陰涼干燥條件下
4.3、 疏水材料ETC-PRO
EVOCHEM ETC-PRO是眼科行業(yè)的專用產(chǎn)品線，具有高耐磨性和易于清潔的表面特性。該材料通過氣相沉積施加在SiO2層上，能提供117°的水接觸角。在整個(gè)測(cè)試過程中，即使在1kg壓力下循環(huán)8000次后，接觸角也不會(huì)低于105°。
4.4、 疏水材料ETC-PRO UV+
EVOCHEM ETC-PRO UV+是具有更高耐氣候要求的納米涂層產(chǎn)品線。該材料顯著提高了紫外線照射下的耐污性和耐化學(xué)性，同時(shí)保持高度光滑的表面。即使在600小時(shí)QUV和990小時(shí)氙弧燈測(cè)試條件下，PRO UV+涂層物質(zhì)的接觸角也能保持在>100°。
4.5、 工作原理
EVOCHEM疏水材料的工作原理是：材料的一端與其分子鏈的一端形成共價(jià)、高度穩(wěn)定的氧化物表面（例如SiO2），而另一端（全氟化）則遠(yuǎn)離表面對(duì)齊。因此，具有易于清潔的特性。此外，涂層（例如AR層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護(hù)。
物理氣相沉積工藝（PVD工藝）是EVOCHEM蒸發(fā)材料使用的一種沉積工藝，其中蒸發(fā)材料以原子的形式從固體源蒸發(fā)，并以蒸汽的形式通過真空或低壓（或等離子體）環(huán)境傳輸?shù)秸羝奂幕摹?/span>
5、 優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)
EVOCHEM蒸發(fā)材料具有多個(gè)特點(diǎn)，使其在薄膜沉積過程中表現(xiàn)出較好的性能：
高純度材料：EVOCHEM提供的純金屬和超純金屬產(chǎn)品，純度范圍從99.00%至99.999999%。高純度有助于實(shí)現(xiàn)預(yù)期的涂層特性，減少雜質(zhì)對(duì)薄膜性能的影響。
低噴濺特性：這一特點(diǎn)允許為關(guān)鍵應(yīng)用提供低缺陷涂層，減少了后續(xù)處理工序，提高了產(chǎn)品的合格率。
優(yōu)化的熔煉性能：材料經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計(jì)，提高了生產(chǎn)過程中的產(chǎn)量，降低了單位生產(chǎn)成本。
形態(tài)多樣性：EVOCHEM蒸發(fā)材料提供多種形態(tài)，包括粉末、線材、箔、片材、棒材、管材和靶材等。多樣的形態(tài)使得這些材料能夠適應(yīng)不同的蒸發(fā)源和設(shè)備需求。
環(huán)境友好：EVOCHEM的新產(chǎn)品組合已經(jīng)符合最新的立法要求，其中產(chǎn)品或整個(gè)生產(chǎn)過程中均不存在全氟辛烷磺酸（PFOS）和全氟辛酸（PFOA）。
6、 主要應(yīng)用
EVOCHEM蒸發(fā)材料廣泛應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)的薄膜制備過程，主要涵蓋以下領(lǐng)域：
光學(xué)薄膜領(lǐng)域：用于制備光學(xué)干涉涂層、鏡面涂層、防反射涂層（AR）和光束分離涂層等。這些涂層廣泛應(yīng)用于各類光學(xué)元件和系統(tǒng)。
微電子與半導(dǎo)體領(lǐng)域：用于沉積導(dǎo)電薄膜（包括TCO薄膜和ITO），這些薄膜是微電子器件和半導(dǎo)體裝置的關(guān)鍵組成部分。
裝飾與防護(hù)涂層：應(yīng)用于裝飾涂層、耐磨涂層和防腐蝕涂層，為產(chǎn)品提供美觀外觀和延長使用壽命。
顯示與能源領(lǐng)域：用于顯示器、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和太陽能電池等應(yīng)用的薄膜制備。
眼科行業(yè)：EVOCHEM的ETC-PRO產(chǎn)品線是眼科行業(yè)的專用產(chǎn)品，具有較高的耐磨性和易于清潔的表面特性。
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